LCD生产流程及工艺原理LCD生产流程及工艺原理 去除有机物:有机清洗剂、弱碱清洗液、UV光清洗、O31 ITO 玻璃预清洗(pre-cleaning) 清洗等;去除无机物:弱酸、喷淋、气流等;去除残留微 粒子:超声、喷淋、气流等～ 光刻胶一般由感光剂、增感剂和溶剂组成，有正性胶和负 性胶两种，正性胶是显掉曝光的部分，负性胶是显掉未曝2 涂光刻胶(pr-coating) 光的部分。点评的项目主要有与ITO的黏着性、抗蚀性 等，光刻胶涂好后要预烘～ 现在所用的MASK有菲林、光膜和硌版三种，依据所用 的光刻胶各自对应有正性胶和负性胶两...

  LCD生产流程及工艺原理 去除有机物:有机清洗剂、弱碱清洗液、UV光清洗、O31 ITO 玻璃预清洗(pre-cleaning) 清洗等;去除无机物:弱酸、喷淋、气流等;去除残留微 粒子:超声、喷淋、气流等～ 光刻胶一般由感光剂、增感剂和溶剂组成，有正性胶和负 性胶两种，正性胶是显掉曝光的部分，负性胶是显掉未曝2 涂光刻胶(pr-coating) 光的部分。点评的项目主要有与ITO的黏着性、抗蚀性 等，光刻胶涂好后要预烘～ 现在所用的MASK有菲林、光膜和硌版三种，依据所用 的光刻胶各自对应有正性胶和负性胶两种。曝光时的光反3 曝光(exposure) 应进程如下:感光剂-------------发生交联、聚合或分化---- 改动光刻胶的功用～ 用低浓度的碱液显影，把曝光部分的光刻胶除掉。显影后4 显影(developing) 要坚膜以增强光刻胶的抗蚀性。涂光刻胶、曝光和显影过 程必须在黄灯区操作～ 5 酸刻(etching) 用强酸刻蚀露出的ITO以构成ITO图画～ 6 脱膜(striping) 用高浓度的碱液把未曝光的光刻胶除掉. 在TOP、PI移印前要进行整理洗刷，除掉污物，增强印刷均7 移印前清洗 匀性、黏附力 TOP的基本成分是SIO2，能加强绝缘功用。按功用分8 TOP 移印(roller coating) 有高温固化型、低温固化型、防静电型、消除底影型等～ 聚酰亚胺(简称PI)是由聚酰亚胺酸(PA)在高温条件9 PI 移印(roller coating) 下脱水固化构成的，他的作用是使液晶分子依照必定的方 向和视点摆放～ 经过高温处理使得TOP 液和PI 液固化，并使得PI层形10 固化(curing) 成必定的预倾角～ 11 冲突(rubbing) 经过冲突方法使得PI膜

  面分子沿冲突方向摆放。 12 冲突后清洗 除掉PI层外表的异物 丝印的密封胶以环氧树脂为基材，惨入必定尺度的玻璃粉13 丝印(seal-printing) 来操控盒厚 塑胶球用做液晶盒中心的衬垫料，来支撑必定的盒厚。塑14 喷粉(spacer spraying) 胶球不能与液晶发生任何化学反响，而且热膨胀系数要和 液晶的相一致 15 贴合(assembly) 把上下玻璃的基板对位帖合,构成空盒。 在必定温度条件下使密封胶发生相关反响，构成网状结16 热压(hot pressing) 构。一起施加必定的压力使盒厚坚持均匀。 17 切开(scribing) 沿切开标把每对玻璃基板切开成单粒LCD PANEL 空盒抽真空今后，先运用毛细现象注入液晶，再用盒表里18 灌液(lc filling) 气压差灌注液晶。 19 整平(reconpress) 施加恰当的压强使盒厚均匀。 用UV胶把液晶进口密封，并用UV光固化UV胶。固化20 封口(end sealing) 进程要注意对液晶的防护，防止UV光直接照耀液晶。 21 清洗(leaning) 用清洗剂把液晶外表、引线脚及缝隙的液晶和污物去掉。 22 老化(annealing) 用略高于液晶清亮点的温度使液晶分子从头定向。 23 电测(electrical checking) 加静态驱动波形点亮LCD，检查出不合格品。 24 目测(visual checking) 用偏光片在光台上检查出不合格品。 在液晶盒上下面贴上指定的偏光片，并加温加压消除偏光25 贴片(polarizerssembly) 片和玻璃的气泡。

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